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【2h】

High temperature reactive ion etching of iridium thin films with aluminum mask in CF4/O2/Ar plasma

机译：高温反应离子刻蚀CF4 / O2 /空气等离子体中铝掩模的铱薄膜

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Chia-Pin Yeh; Marco Lisker; Bodo Kalkofen; Edmund P. Burte;
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年度 2016
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